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首頁 行業(yè)動態(tài) 英特爾完成下一代32納米工藝開發(fā)工作
英特爾完成下一代32納米工藝開發(fā)工作
2017-28-01

       英特爾公司將于下周在舊金山舉行的國際電子器件會議(IEDM)上披露32納米制程技術(shù)的相關(guān)細節(jié)及其它主題信息。英特爾將在預定時間內(nèi)完成32納米制程技術(shù)的開發(fā)及處理器制造的前期準備工作,這意味著其產(chǎn)品與制程發(fā)展計劃“Tick-tock”戰(zhàn)略再次得以成功實施。

     “Tick-tock”戰(zhàn)略指英特爾每隔12個月將交替推出全新的處理器微架構(gòu)和領(lǐng)先的制程技術(shù),這一獨特的發(fā)展模式推動了產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展。隨著明年32納米芯片的推出,這將是英特爾公司連續(xù)第四年實現(xiàn)“Tick-tock”戰(zhàn)略目標。

       英特爾即將發(fā)布的32納米論文及報告介紹了新的邏輯技術(shù),融合了第二代高K金屬柵極技術(shù)、面向關(guān)鍵圖案形成層的193納米浸沒式光刻技術(shù)以及增強型溝道應(yīng)變技術(shù)。這些特性進一步增強了英特爾處理器的性能和能效。與現(xiàn)有的其它32納米技術(shù)相比,英特爾的制程技術(shù)擁有業(yè)內(nèi)最高的晶體管性能和晶體管密度。

       英特爾高級院士兼制程架構(gòu)與集成總監(jiān)馬博(Mark Bohr)表示:“對于基于英特爾架構(gòu)的筆記本電腦、服務(wù)器和臺式機,我們的制造能力和產(chǎn)品能夠為其實現(xiàn)業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的計算性能和電池續(xù)航能力。正如我們今年所展示的,英特爾的制造戰(zhàn)略和執(zhí)行能力還讓我們能夠為移動互聯(lián)網(wǎng)設(shè)備(MID)、消費電子設(shè)備、嵌入式計算機和上網(wǎng)本等提供全新的產(chǎn)品線。” 英特爾在IEDM上發(fā)表的其它論文涉及:一款低功率SoC版英特爾45納米制程;基于復合半導體的晶體管;提升45納米晶體管性能的襯底工程;為45納米和更高節(jié)點集成化學機械拋光;以及集成硅光電子調(diào)制器陣列。英特爾還將參與一個有關(guān)22納米CMOS技術(shù)的短期課程。


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